第697章 直奔浸润式光刻(2 / 2)

程和光学的浅薄认识来看,这些技术,都不是超越现代工程的技术。

那么这就意味着,浸润式方案,也会如同前世一样,或许两年就能搞出来——把时间再算浮一点,那也就是三年!

三年!

如果郑振川和林本坚的团队一同协作,一开始就直奔浸润式duv的研发,那么或许最多三到五年……鸿芯就能推出世界上第一台浸润式duv光刻机。

想到2003年,自己就能拿到可以卖20年都不会落伍的duv,苏远山就感觉到有点燥热起来。

那该是多么伟大的一次超越啊……

“不,林,赵团队没有解决光源,但他们有解决镜头的方案。可以实现超越193nm的效果。”苏远山看着曲慧和沈浩然,解释道:“如果郑叔这边和那边直接配合启动该方案的光刻机的研发,那么……或许鸿芯就可能是第一家率先打破193nm的光刻机企业。”

“到时候,别说asml之流,就算尼康佳能,他们也只能跪地求饶。”

“而一旦我们有了话语权,我们再来拉着他们开展对下一代光源、譬如euv的研究……那么主动权就在我们手里了。”

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